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無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學(xué)氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項(xiàng)目一般變動(dòng)環(huán)境影響分析報(bào)告 |
| 發(fā)布者：無(wú)錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責(zé)任公司 發(fā)布時(shí)間：9/19/2023 3:03:27 PM 點(diǎn)擊次數(shù)：3415 關(guān)閉 |
“無(wú)錫尚積半導(dǎo)體科技有限公司新物理氣相沉積設(shè)備、新化學(xué)氣相沉積設(shè)備和干法刻蝕設(shè)備的研發(fā)項(xiàng)目”發(fā)生變動(dòng)，但未構(gòu)成重大變動(dòng)，經(jīng)此次變動(dòng)分析后納入排污許可和三同時(shí)驗(yàn)收管理。
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